厦门虹鹭钨钼工业有限公司

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化学气相沉积钨制品

详细参数

化学气相沉积（CVD）是一种通过气相化学反应在被加热的固体表面生成固相沉积物的工艺方法。该方法可生产传统的粉末冶金方法无法生产的薄壁、小尺寸或者异型件等制品。

熔点高（3410℃），高温导电性好，热膨胀系数很小。

纯度高、致密度高、硬度高、加工性能好。

具有100%致密的柱状晶结构，产品无裂纹。

可生产薄壁、小尺寸、异型件。

优良的防腐性能。

W纯度

Purity

密度

Density

维氏硬度

Hardness

加工性能

Machinability

导电性Conductivity

>99.9%

>19.2 g/cm3

Hv 400~600

可加工 OK

良好 Good

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